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Caratterizzazione di film sottili di SiO2 e di Silicio policristallino depositati mediante tecniche CVD

Omar Giarrizzo

Caratterizzazione di film sottili di SiO2 e di Silicio policristallino depositati mediante tecniche CVD.

Rel. Giancarlo Cicero, Boris Paladino, Alessandro Pedico. Politecnico di Torino, Corso di laurea magistrale in Ingegneria Dei Materiali, 2023