 | Livello precedente |
Omar Giarrizzo.
Caratterizzazione di film sottili di SiO2 e di Silicio policristallino depositati mediante tecniche CVD.
Rel. Giancarlo Cicero, Boris Paladino, Alessandro Pedico. Politecnico di Torino, Corso di laurea magistrale in Ingegneria Dei Materiali, 2023
Eccetto ove diversamente specificato, i contenuti di questo sito sono rilasciati sotto 
Licenza Creative Commons - Attribuzione 3.0 Italia.
Powered by Eprints 3 - customization and management by Politecnico di Torino.
