Edoardo Brezza
Evaluation of a new Si/SiGe Heterojunction Bipolar Transistor architecture in the 55 nm BiCMOS technology.
Rel. Sergio Ferrero. Politecnico di Torino, Corso di laurea magistrale in Nanotechnologies For Icts (Nanotecnologie Per Le Ict), 2019
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Abstract
BiCMOS055 di STMicroelectronics, una tecnologia BiCMOS nel nodo 55 nm, dimostra prestazioni senza eguali nei circuiti RF ed é la scelta per applicazioni allo stato dell'arte. BiCMOS055X intende migliorare queste capacità introducento la nuova architettura EXBIC per transistors bipolari. La nuova struttura presenta una epitassia del collettore intrinseco che permette di controllare precisamente la giunzione base-collettore e di intervenire liberamente sul collettore estrinseco impiantato nel substrato. Oggetto di questo lavoro, la riduzione della capacità parassita base-collettore è ottenuta aggiungendo alla struttura un Super Shallow Trench Isolation (SSTI) e tramite lo studio di tecniche di drogaggio specifiche. La possibilità di poter integrare direttamente le proposte é studiata tramite l'ausilio di simulazioni TCAD ed esperimenti su Silicio.
Si presentano diverse soluzioni e si forniscono ipotesi per una futura riproduzione su Silicio
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