Il presente lavoro di tesi analizza e ottimizza processi di elettrodeposizione di metalli su substrati microfabbricati, con particolare attenzione all’influenza dei parametri elettrochimici e delle condizioni operative sulla morfologia e sulle proprietà dei depositi ottenuti. La piattaforma sperimentale è stata realizzata mediante tecniche di microfabbricazione su wafer di silicio rivestito in titanio e oro, definendo elettrodi con geometrie micrometriche idonee a misure elettrochimiche controllate. Le deposizioni sono state effettuate utilizzando procedure come la voltammetria ciclica (CV), la cronoamperometria (CA) e la voltammetria a scansione lineare (LSV), analizzando il ruolo del potenziale applicato e della densità di carica nel determinare lo spessore, le dimensioni dei grani e l’uniformità del film.