Thermal laser process of thin silicon carbide deposited by PECVD

Francesco Iozzi

Thermal laser process of thin silicon carbide deposited by PECVD.

Rel. Luciano Scaltrito, Sergio Ferrero. Politecnico di Torino, NON SPECIFICATO, 2024

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Abstract:	Processo Termico Laser di Silicon Carbide depositato in film sottile
Relatori:	Luciano Scaltrito, Sergio Ferrero
Anno accademico:	2023/24
Tipo di pubblicazione:	Elettronica
Numero di pagine:	97
Soggetti:
Corso di laurea:	NON SPECIFICATO
Classe di laurea:	Nuovo ordinamento > Laurea magistrale > LM-29 - INGEGNERIA ELETTRONICA
Aziende collaboratrici:	NON SPECIFICATO
URI:	http://webthesis.biblio.polito.it/id/eprint/31007

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